国产骄傲!华科大攻克关键技术,实现我国首次全自主设计!

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北京达源环保科技有限公司 2024-11-12 公司简介 30 次浏览 0个评论

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导语

“中国芯片又添新成员!”

山东大学华科大一则关于光刻胶的新闻引发网友们纷纷好奇:光刻胶是什么?

有什么作用?

而这则新闻不仅代表着我国芯片行业又迎来了一些调整信号,也象征着我国自主可控的道路上又向前迈出了一大步。

从这条消息中我们可以看出,我国自主研发的光刻胶大批量生产,并且获得了众多国内外科研单位的认可,而我国的光刻胶是如何打造出来的?

它在我国芯片制造过程中又起到怎样的作用呢?

光刻胶的作用。

众所周知,光刻胶是制造芯片过程中一个非常关键的材料,是芯片制造过程中不可或缺的材料之一,很大程度上光刻胶决定了芯片的性能以及命运,也决定着芯片的性能,所以说光刻胶是芯片制造过程中至关重要的一环。

光刻胶的作用就是在硅片的上表面涂上一层薄膜的光敏聚合物,通过后续的工艺将芯片电路图案转移到芯片的硅片上,这样芯片就制作完成了。

光刻胶在制造芯片的过程中,主要通过电子束激光等方法将电路图案转移到硅片上,这一关键步骤可以说是整个芯片制造过程的“灵魂所在”。

光刻胶的工作原理其实与摄影胶卷相似,光刻胶可以帮助记录下“芯片的照片”,甚至可以非常精细。

因此我们可以说,光刻胶就等于“芯片的胶卷”。

通过将电路图案转移到硅片上,光刻胶就将芯片的设想变为现实,最终为各种电子产品提供了更加高效的工作能力。

然而,光刻胶在制作芯片的重要性不言而喻,但它的研发过程却极其艰难,在这条道路上,我国国产的光刻胶与国外的光刻胶存在着十个层次的差距。

而这十个层次的差距,着实让我国芯片行业吃尽了苦头。

我国光刻胶市场中,大多数为进口光刻胶产品,其价格和性能不言而喻,但这十个层次的差距究竟存在于哪里。

我国光刻胶市场现状。

我国的光刻胶市场中有着国外的进口产品,而我国自主研发的光刻胶产品在性能上与进口的光刻胶有着巨大的差距。

我国的高端光刻胶一直处于被国外卡脖子的状态,这使得我国的芯片行业受制于人,面临着巨大的市场风险。

这十个层次的差距就体现在我国光刻胶市场中,得不到突破和进展。

我国的国产光刻胶面临着技术封锁的困境,而进口光刻胶产品则成为市场上最为畅销的产品,无疑加重了我国芯片行业被制约的现状。

但随着华中科技大学研发出T150A光刻胶后,这一现状得到了改变,获得了众多科研单位的认可,并且能够大批量生产。

我国的国产光刻胶与进口的光刻胶在性能上类似,而这款国产化的光刻胶与国外的光刻胶相比,具有不可替代性。

这就好比我国的高端光刻胶长时间处于进口阶段,但如今一款类似的国产光刻胶横空出世,势必会改变国际市场的格局,影响光刻胶市场的走势。

我国的国产光刻胶在性能上与进口光刻胶相当,并且还有着十分重要的优势,那便是成本。

由于我国的国产光刻胶在生产过程中,所需原材料均为国产,且在设备方面也都是国产设备。

这使得我国的国产光刻胶产品相比进口产品大幅降低了生产成本。

这无疑为我国的芯片行业带来了希望,然而光刻胶的成功又是如何实现的呢?

国产光刻胶的成功。

光刻胶的成功毫无疑问和华中科技大学有着密不可分的关系。

华中科技大学在光刻胶的研究方面,已经走过了二十多年岁月,其中积累下了巨大的技术储备。

深圳创世纪纳米技术有限公司作为华中科技大学的光刻胶技术转让单位,早在2016年就已经向工信部提交了包括T150A在内的备案申请,并获得了工信部的批准,随后便开始着手研制。

经过多年的努力,T150A终于问世,而其首批量产的成功,标志着我国在高端光刻胶领域取得了重大突破。

但华科大研发的T150A光刻胶与国外的高端光刻胶之间尚存一定的距离,主要是在分辨力,抗高温,以及气味控制等方面。

T150A光刻胶作为参考,虽然无法达到与国外光刻胶相同的标准,但已有着非常可喜的进展,特别是在分辨率方面已达到较高的水平。

在与主流进口产品相同种类的比较中,T150A光刻胶的分辨率为0.8微米,而对比荷兰ASML的五代玻璃掩模技术所需的1.0微米分辨率标准,T150A光刻胶可谓是触及了最先进的标准。

此外,在抗高温方面,T150A光刻胶在后烘温度上提升至200℃,不仅能够在后烘200℃保持优异的性能,还能在后烘220℃保持稳定,这在国内同行中领先。

但与国外进口光刻胶的最高标准相比,仍有一段距离。

另外,在气味控制方面,T150A光刻胶的气味略大,但在液体光刻胶使用的过程中,气味会挥发,一般情况下不会造成影响。

我国的高端光刻胶虽然还存在一定的差距,但中国科研人员又何尝不是在努力的追赶呢?

随着科技的持续发展和技术的不断突破,中国在科研领域表现出强大的创新能力和技术水平。

结语

中国芯片行业的崛起和光刻胶的突破将改变全球芯片市场的格局,带来科技创新的新机遇。

然而,技术的不断升级和更新迭代也带来了更激烈的竞争和更多的挑战。

中国在光刻胶领域的突破,不仅在为打破国外的技术封锁而努力,也在为实现自主可控的目标而不懈探索。

随着国家政策的支持和科技投入的增加,中国自主研发的光刻胶行业必将迎来更加广阔的前景和更为重要的地位。

光刻胶的进展,自主可控的探索,都将为我国芯片产业的发展注入新的动力和希望。

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